Hafnium tethachloride | Bubuk HFCL4 | Cat 13499-05-3 | Harga pabrik

Katerangan pondok:

Hagachloride tetheida ngagaduhan aplikasi penting salaku prékur ooldiida oknida, katalis pikeun sintésis organik, aplikasi énzim, langkung penting dina sagala rupa widang téknologi.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Kirim email ka kami

Jénmén produk

Tag produk

Panjelasan Produk

Pengadegalan ringkes

Ngaran Produk: Hafnium Tetachloride
CAS NO .: 13499-05-3
Rumus sanyawa: HFCL4
Beurat molekular: 320,3
Penampilan: bubuk bodas

Spésifikasi

Barang	Spésifikasi
Katingali	Bubuk bodas
Hfcl4 + ZRCL4	≥19.9%
Zr	≤200pm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20pm
Si	≤40ppm
Mg	≤20pm
Cr	≤20pm
Ni	≤255pm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Lamaran

Hafniard Doaxida: Hafntium tethecklorider utamana dianggo salaku prékursor ngahasilkeun hafnium dioksida (HFO2), bahan anu ngagaduhan sipat dielosékrrik anu saé. HFO2 tibatan dianggo dina aplikasi nu bocicrik ka rangkrik sareng Profesion dina industri matikonduk. Hfccl4 penting dina pembuatan parangkat éléktronik Advtronic kusabab kamampuan pikeun ngabentuk pilem ipis Haxida.
Katalis organik organik: Hafhtium tiasa dianggo salaku pasalsem kanggo sagala réaksi serintikis organik, utamana polimérisasina zimmerisasi olyfin. Sipat asam waris na ngabantosan pikeun ngabentuk pertantikan aktif, aya nyaéta pangaruh efisiensi réaksi kimia. Aplikasi ieu berharga dina produksi polmers sareng sanyawa organik sanés dina industri kimia.
Aplikasi nuklir: Kusabab bagian cross narkas Hafnium tiasa nyiptakeun niron, janten bahan anu cocog pikeun ngatur prosés fisiinan, anu ngabantosan ningkatkeun kasalametan sareng efisiensi gerpatan nuklir.
Déposisi pilem ipis: Hagfnium digunakeun dina déposisi uap Upim (CVD) prosés pikeun ngabentuk pilemalan Hafnume-Hafnum. Facts ieu penting dina sagala rupa aplikasi, kalebet mikroéléktronika, optika pelarjamahkeun. Proses pikeun depet depet seragam, film anu bermutan tinggi ngajadikeun HFCL4 berh ber pisan berharga dina prosés manufaktur canggih.