Kalayan pamekaran gancang 5G, intelijen buatan (AI) sareng Internet of Things (IoT), paménta bahan berkinerja tinggi dina industri semikonduktor parantos ningkat sacara dramatis.Zirkonium tetraklorida (ZrCl₄), salaku bahan semikonduktor penting, geus jadi bahan baku indispensable pikeun chip prosés canggih (kayaning 3nm / 2nm) alatan peran konci na dina persiapan pilem tinggi-k.
Zirconium tetraklorida sareng pilem tinggi-k
Dina manufaktur semikonduktor, pilem tinggi-k mangrupakeun salah sahiji bahan konci pikeun ngaronjatkeun kinerja chip. Salaku prosés nyusut kontinyu tina bahan diéléktrik gerbang basis silikon tradisional (sapertos SiO₂), ketebalan maranéhanana ngadeukeutan wates fisik, hasilna ngaronjat leakage sarta kanaékan signifikan dina konsumsi kakuatan. bahan High-k (kayaning zirconium oksida, hafnium oksida, jsb) éféktif bisa ningkatkeun ketebalan fisik lapisan diéléktrik, ngurangan éfék tunneling, sahingga ngaronjatkeun stabilitas jeung kinerja alat éléktronik.
Zirconium tetraklorida mangrupa prékursor penting pikeun persiapan film high-k. Zirconium tetraklorida tiasa dirobih janten pilem zirkonium oksida kalayan kemurnian tinggi ngalangkungan prosés sapertos déposisi uap kimia (CVD) atanapi déposisi lapisan atom (ALD). Pilem ieu gaduh sipat diéléktrik anu saé sareng tiasa sacara signifikan ningkatkeun kinerja sareng efisiensi énergi chip. Salaku conto, TSMC ngenalkeun rupa-rupa bahan anyar sareng perbaikan prosés dina prosés 2nm na, kalebet aplikasi film konstanta diéléktrik anu luhur, anu ngahontal paningkatan dénsitas transistor sareng pangurangan konsumsi kakuatan.
Dinamika ranté suplai global
Dina ranté suplai semikonduktor global, suplai jeung pola produksizirkonium tetrakloridapenting pisan pikeun pangwangunan industri. Ayeuna, nagara sareng daérah sapertos Cina, Amérika Serikat sareng Jepang nempatan posisi penting dina produksi zirconium tetrachloride sareng bahan konstanta diéléktrik anu luhur.
Terobosan téknologi sareng prospek masa depan
Terobosan téknologi mangrupikeun faktor konci pikeun ngamajukeun aplikasi zirconium tetraklorida dina industri semikonduktor. Dina taun-taun ayeuna, optimasi prosés déposisi lapisan atom (ALD) parantos janten hotspot panalungtikan. Prosés ALD akurat bisa ngadalikeun ketebalan sarta uniformity pilem dina skala nano, kukituna ngaronjatkeun kualitas pilem konstan diéléktrik tinggi. Contona, grup panalungtikan Liu Lei Universitas Peking nyiapkeun pilem amorf konstan diéléktrik tinggi ku metoda kimia baseuh jeung hasil dilarapkeun ka alat éléktronik semikonduktor dua diménsi.
Salaku tambahan, salaku prosés semikonduktor terus maju ka ukuran anu langkung alit, ruang lingkup aplikasi zirconium tetrachloride ogé ngalegaan. Salaku conto, TSMC ngarencanakeun pikeun ngahontal produksi masal téknologi 2nm dina satengah kadua 2025, sareng Samsung ogé aktip promosi panalungtikan sareng pamekaran prosés 2nm na. Realisasi prosés canggih ieu teu bisa dipisahkeun tina pangrojong film konstan diéléktrik tinggi, sarta zirconium tetrachloride, salaku bahan baku konci, pentingna timer dibuktikeun.
Kasimpulanana, peran konci zirconium tetrachloride dina industri semikonduktor janten langkung menonjol. Kalayan popularitas 5G, AI sareng Internet of Things, paménta pikeun chip berkinerja tinggi terus ningkat. Zirconium tetrachloride, salaku prékursor penting pilem konstan diéléktrik tinggi, bakal maénkeun peran irreplaceable dina promosi ngembangkeun téhnologi chip generasi saterusna. Dina mangsa nu bakal datang, ku kamajuan kontinyu tina téhnologi jeung optimasi ranté suplai global, prospek aplikasi zirconium tetraklorida bakal leuwih lega.
waktos pos: Apr-14-2025